日本Otsuka大塚薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供
采用線掃描方式檢測整面薄膜硬件軟件均為創(chuàng)新設計作為專業(yè)膜厚測定廠商，提供多種支援實現(xiàn)高精度測量實現(xiàn)高速測量不受偏差影響可對應寬幅樣...

產(chǎn)品型號：

更新時間：2025-04-15

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：490

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

產(chǎn)品介紹

日本Otsuka大塚薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚薄膜離線型掃描膜厚儀

產(chǎn)品信息

特點

● 全面高速高精度進行薄膜等面內(nèi)膜厚不均一性檢測

● 硬件&軟件均為創(chuàng)新設計

● 作為專業(yè)膜厚測定廠商，提供多種支援

● 實現(xiàn)高精度測量

● 實現(xiàn)高速測量（500萬點以上/分）

產(chǎn)品規(guī)格

測量例

250mm寬的薄膜案例

核心特點：

微區(qū)測量能力：最小光斑直徑3μm，搭配自動XY平臺（200×200mm），實現(xiàn)晶圓、FPD（如OLED、ITO膜）等微小區(qū)域的精準厚度分布映射。
跨行業(yè)適用性：專為半導體（SiO?/SiN膜）、顯示面板（彩色光阻）、DLC涂層等行業(yè)設計，支持粗糙表面、傾斜結構及復雜光學異向性樣品的分析。
安全與擴展性：區(qū)域傳感器觸發(fā)防誤觸機制，獨立測量頭支持定制化嵌入，滿足在線檢測（inline）與實驗室研發(fā)需求。

日本Otsuka大塚薄膜離線型掃描膜厚儀-成都藤田科技提供

非破壞性高速測量：采用顯微分光技術，1秒內(nèi)完成單點對焦與測量，支持從紫外（230nm）到近紅外（1600nm）廣波長范圍，覆蓋1nm至92μm膜厚需求，滿足半導體、光學材料等高精度場景。
透明基板技術：反射對物鏡設計，物理消除基板內(nèi)部反射干擾，實現(xiàn)玻璃、SiC等透明或異向性基板上的高精度膜厚測量，支持50層以上多層膜解析。
智能建模與易用性：內(nèi)置初學者模式，簡化光學常數(shù)（n/k）建模流程，支持宏功能自定義測量序列，可無縫集成自動化產(chǎn)線。